A review of nitrogen trifluoride for dry etching in microelectronics processing

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标题	A review of nitrogen trifluoride for dry etching in microelectronics processing 三氟化氮在微电子加工中的干法刻蚀研究进展相关领域微电子干法蚀刻蚀刻（微加工）制作氮气纳米技术材料科学反应离子刻蚀工程物理等离子体刻蚀等离子体化学工程类物理有机化学核物理学医学替代医学图层（电子）病理
网址	https://doi.org/10.1016/s0026-2692(85)80121-x
DOI	10.1016/s0026-2692(85)80121-x doi
其它	期刊：Microelectronics Journal 作者：B. Golja; John A. Barkanic; Andrew Hoff 出版日期：1985-01-01
求助人	钟123 在 2025-06-03 11:08:45 发布自上海，悬赏 10 积分
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