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A novel physical vapor deposition setup applying high-frequency currents: Deposition of Cu thin films
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网址
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2024.113839
DOI
10.1016/j.vacuum.2024.113839 doi
其它 期刊：Vacuum
作者：Ioannis A. Poimenidis; Michalis Liapakis; A. Klini; Maria Farsari; S. Moustaizis; et al
出版日期：2024-11-16
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听雨家教 在 2026-01-06 07:18:27 发布自河北，悬赏 10 积分
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