| 标题 |
Novel carboxylic-MWCNTs photoresist for fabricating sub-diffraction polymer nanowires via STED lithography |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Optik 作者:Fei Xie; Lili Liang; Qingbin Zhou; Ziwei Feng; Jian Xu; et al 出版日期:2024-10-05 |
| 求助人 | |
| 下载 | 暂无链接,等待应助者上传 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)