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Zone shape control by pattern-assisted proximity effect correction in e-beam lithography for efficiency enhancement in x-ray optics
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网址
https://doi.org/10.1117/1.jmm.17.4.043502
DOI
10.1117/1.jmm.17.4.043502 doi
其它 期刊：Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS
作者：Shanshan Xie
出版日期：2018-11-09
求助人
刻苦的易形 在 2025-10-27 11:11:19 发布自四川，悬赏 20 积分
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