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标题
Microstructural properties of SiC thin film deposited by RF sputtering technique and its role on the barrier parameters of n-InP/Pd and n-GaP/Pd junctions as an interlayer
射频溅射沉积SiC薄膜的微观结构特性及其对n-InP/Pd和n-GaP/Pd中间层结势垒参数的作用
相关领域
材料科学 带隙 溅射 薄膜 碳化硅 光电子学 二极管 半导体 纳米技术 复合材料
网址
https://doi.org/10.1016/j.physb.2022.414364
DOI
10.1016/j.physb.2022.414364 doi
其它 期刊：Physica B Condensed Matter
作者：B. Güzeldir; Ali Baltakesmez; M. Sağlam
出版日期：2022-09-30
求助人
Mie 在 2025-08-27 06:51:20 发布自贵州，悬赏 10 积分
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