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 Single-fundamental-mode cryogenic (3.6 K) 850-nm oxide-confined VCSEL 单基模低温（3.6 K）850nm氧化物限制VCSEL
相关领域
垂直腔面发射激光器
材料科学
氧化物
光电子学
模式（计算机接口）
激光器
光学
物理
计算机科学
冶金
操作系统
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| 其它 |
期刊：Journal of Semiconductors 作者：Anjin Liu; Chenxi Hao; Jingyu Huo; Hailong Han; Minglu Wang; et al 出版日期：2024-10-01 |
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