Chemical Conditions of SiCNO Film Exposed to ClF3 Gas

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标题	Chemical Conditions of SiCNO Film Exposed to ClF3 Gas 相关领域 X射线光电子能谱材料科学蚀刻（微加工）化学气相沉积氟氮气氯分析化学（期刊）图层（电子）氮气化学工程纳米技术环境化学冶金化学有机化学工程类
网址	https://doi.org/10.1149/2162-8777/ac2912
DOI	10.1149/2162-8777/ac2912 doi
其它	期刊：ECS Journal of Solid State Science and Technology 作者：Kenta Hori; Hiroki Kawakami; Hitoshi Habuka 出版日期：2021-09-22
求助人	mcy 在 2025-10-27 21:36:51 发布自贵州，悬赏 10 积分
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