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标题
Selective atomic layer reaction between GaN and SiN in HBr neutral beam etching
相关领域
蚀刻（微加工） 解吸 分析化学（期刊） 图层（电子） 干法蚀刻 反应离子刻蚀 材料科学 化学 纳米技术 吸附 物理化学 色谱法
网址
https://doi.org/10.1116/6.0000867
DOI
10.1116/6.0000867 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
作者：Daisuke Ohori; T. Sawada; Kenta Sugawara; Masaya Okada; Ken Nakata; et al
出版日期：2021-05-10
求助人
QiaoFish 在 2025-10-04 16:30:20 发布自湖南，悬赏 10 积分
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