Effect of Bias Frequency on Bottom-Up SiO2 Gap-Filling Using Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition

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标题	Effect of Bias Frequency on Bottom-Up SiO2 Gap-Filling Using Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition 偏压频率对等离子体增强原子层沉积自下而上SiO2间隙填充的影响相关领域材料科学沟槽溅射原子层沉积光电子学蚀刻（微加工）等离子体带隙纵横比（航空）离子基质（水族馆）空隙（复合材料）图层（电子）薄膜纳米技术复合材料物理量子力学海洋学地质学
网址	https://doi.org/10.1021/acsami.4c06106 AI链接 nih.govdoi.org
DOI	10.1021/acsami.4c06106 doi
其它	期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Ye Ji Shin; Ho Gon Kim; Seung Yup Choi; Seo Min Kim; Ji Eun Kang; et al 出版日期：2024-07-29
求助人	Zex 在 2025-08-31 23:57:54 发布自北京，悬赏 10 积分
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