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 Effect of gas additives on reaction barriers in cryo etching of silicon oxide and nitride 相关领域
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Yichen Fan; Thorsten Lill; Mingmei Wang; Dongjun Wu; Gopal R. Iyer; et al 出版日期：2026-04-09 |
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