| 标题 |
 Mechanical deflection of a free-standing pellicle for extreme ultraviolet lithography 相关领域
极紫外光刻
偏转（物理）
极端紫外线
材料科学
薄脆饼
平版印刷术
光学
薄膜
抵抗
纳米
纳米技术
光电子学
复合材料
物理
图层（电子）
激光器
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Microelectronic Engineering 作者：Eun‐Sang Park; Zahid Hussain Shamsi; Jiwon Kim; Dai-Gyoung Kim; Jin-Goo Park; et al 出版日期：2015-04-11 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
GingerF
Willa
OsamaKareem
1111
无极微光
AllRightReserved
辛勤的诗柳
青山
Nexus
缓慢怜菡
可可
干净的琦
李伟
嘉心糖
Richard
Rita
Hayat
氘代环己烷
小刚
MchemG
皖公网安备34019202002308
