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Mechanical deflection of a free-standing pellicle for extreme ultraviolet lithography

极紫外光刻 偏转（物理） 极端紫外线 材料科学 薄脆饼 平版印刷术 光学 薄膜 抵抗 纳米 纳米技术 光电子学 复合材料 物理 图层（电子） 激光器
作者
Eun‐Sang Park,Zahid Hussain Shamsi,Jiwon Kim,Dai-Gyoung Kim,Jin-Goo Park,Jinho Ahn,Hye-Keun Oh
出处
期刊：Microelectronic Engineering [Elsevier BV]
日期：2015-04-11 卷期号：143: 81-85 被引量：17
链接
sciencedirect.com sciencedirect.comdoi.org
标识
DOI：10.1016/j.mee.2015.04.012
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