Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Porous Organosilicate Glass ILD Films With k ≤ 2.4

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标题	Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Porous Organosilicate Glass ILD Films With k ≤ 2.4
网址	https://www.cambridge.org/core/services/aop-cambridge-core/c...
DOI	10.1557/proc-766-e7.4 doi
其它	期刊：MRS Proceedings 作者：Raymond N. Vrtis; Mark L. O'Neill; Jean L. Vincent; Aaron S. Lukas; Brian K. Peterson; et al 出版日期：2019-06-07
求助人	冷酷的亦寒在 2026-09-06 21:43:06 发布自广东，悬赏 10 积分
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