| 标题 |
hν-MacEtch of Al-rich AlGaN: Enabling plasma-free processing in the ultra-wide-bandgap regime 相关领域
蚀刻(微加工)
欧姆接触
材料科学
光电子学
感应耦合等离子体
氧化物
反应离子刻蚀
氮化物
纳米技术
数码产品
接触电阻
宽禁带半导体
干法蚀刻
过程(计算)
带隙
电子工程
工程物理
各向同性腐蚀
等离子体
等离子体刻蚀
表征(材料科学)
原子力显微镜
咬边
电接点
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A 作者:Xihang Wu; Yuyao Wang; Gavin Latham; Aadil Waseem; Xiuling Li 出版日期:2026-07-22 |
| 求助人 | |
| 下载 | 暂无链接,等待应助者上传 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)