| 标题 |
Pattern decomposition and process integration of self-aligned double patterning for 30nm node NAND FLASH process and beyond 相关领域
多重图案
浸没式光刻
与非门
平版印刷术
计算机科学
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| DOI |
10.1117/12.814000
doi
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期刊:SPIE Proceedings 作者:Yi-Shiang Chang; Meng-Feng Tsai; Chia-Chi Lin; Jun-Cheng Lai 出版日期:2009-03-13 |
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