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标题
Fluorine‐Free Nanoporous Low‐ k Dielectric Film Covalently Grafted on Si via Aryldiazonium Chemistry
芳基重氮化学与硅共价接枝无氟纳米多孔低k介电膜
相关领域
纳米孔 材料科学 氢氟酸 电介质 钝化 化学工程 共价键 水溶液 高分子化学 纳米技术 图层(电子) 有机化学 光电子学 化学 冶金 工程类
网址
DOI
10.1002/admi.202101127 doi
其它 期刊:Advanced Materials Interfaces
作者:Liangliang Cao; Yunwen Wu; Tao Hang; Ming Li
出版日期:2021-11-12
求助人
zhouzx 在 2024-01-26 10:25:58 发布自浙江,悬赏 10 积分
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