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标题
Doping of Aluminum Nitride and the Impact on Thin Film Piezoelectric and Ferroelectric Device Performance
氮化铝的掺杂及其对薄膜压电和铁电器件性能的影响
相关领域
铁电性 材料科学 压电 氮化物 兴奋剂 钪 光电子学 铝 复合材料 电子工程 冶金 电介质 图层（电子） 工程类
网址
https://doi.org/10.1109/cicc48029.2020.9075911
DOI
10.1109/cicc48029.2020.9075911 doi
其它 期刊：2022 IEEE Custom Integrated Circuits Conference (CICC)
作者：Roy H. Olsson; Zichen Tang; Michael D’Agati
出版日期：2020-03-01
求助人
Ranchoujay 在 2025-07-02 21:57:35 发布自江苏，悬赏 10 积分
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