| 标题 |
Uniformity And Reliability Of 1.5 nm Direct Tunneling Gate Oxide MOSFETs |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Symposium on VLSI Technology 作者: Momose; Nakamura; Ohguro; Yoshitomi; Morifuji; et al 出版日期:2008-07-19 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)