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  Ablation and etching of polymethylmethacrylate by very short (160 fs) ultraviolet (308 nm) laser pulses 相关领域
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| 其它 | Srinivasan R, Sutcliffe E, Braren B. Ablation and etching of polymethylmethacrylate by very short (160 fs) ultraviolet (308 nm) laser pulses[J]. Applied Physics Letters, 1987, 51(16): 1285-1287. |
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