Simulation-guided AI-driven digital twin for plasma etching in semiconductor fabrication

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标题	Simulation-guided AI-driven digital twin for plasma etching in semiconductor fabrication
网址	https://www.cell.com/device/abstract/S2666-9986(25)00339-4
DOI	10.1016/j.device.2025.101026 doi
求助人	浮心沉在 2026-04-08 22:45:52 发布自上海，悬赏 10 积分
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Society for Industrial and Applied Mathematics (SIAM)

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