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Aqueous materials for advanced lithography (Conference Presentation)
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光刻胶 平版印刷术 多重图案 浸没式光刻 极紫外光刻 光刻 材料科学 纳米技术 抵抗 工艺工程 光电子学 计算机科学 图层(电子) 工程类
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DOI
10.1117/12.2516031 doi
其它 期刊:
作者:Yi Cao; Tatsuro Nagahara; Taku Hirayama
出版日期:2019-03-25
求助人
TianBa123 在 2026-04-10 08:50:10 发布自广东,悬赏 20 积分
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