Post-annealing in ultra-high vacuum or nitrogen plasma for MoS2 thin films deposited by magnetron sputtering

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标题	Post-annealing in ultra-high vacuum or nitrogen plasma for MoS2 thin films deposited by magnetron sputtering 相关领域材料科学薄膜溅射沉积 X射线光电子能谱无定形固体退火（玻璃）衍射仪分析化学（期刊）碳膜微观结构拉曼光谱微晶溅射扫描电子显微镜冶金结晶学化学工程光学复合材料纳米技术化学工程类物理色谱法
网址	https://pubs.aip.org/aip/adv/article-pdf/doi/10.1063/6.00032...
DOI	10.1063/6.0003229 doi
其它	期刊：AIP Advances 作者：Chih-Yu Chao; Ping-Yu Tsai; Po-Hung Wu; Ray-Yu Hong; Ing‐Song Yu 出版日期：2024-03-01
求助人	snakersnaker 在 2026-01-08 21:18:54 发布自湖北，悬赏 10 积分
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