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A High-Selectivity HNA Etching System for Bulk Micromachined Deep Holes with High Roundness
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网址
http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/8540837/8556858/08556953...
DOI
10.1109/nems.2018.8556953 doi
其它 期刊：IEEE International Conference on Nano/Micro Engineered and Molecular Systems
作者：Taotao Guan; Fang Yang; W. Wang; Peng Liu; Z. Fan; et al
出版日期：2018-04-22
求助人
wang 在 2026-07-08 09:42:38 发布自浙江，悬赏 10 积分
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