Platinum-based alloy absorber with improved etching properties for next-generation EUV mask

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标题	Platinum-based alloy absorber with improved etching properties for next-generation EUV mask
网址	http://dx.doi.org/10.1117/12.2685114
DOI	10.1117/12.2685114 doi
其它	期刊：International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2023 作者：Yunsoo Kim; Dongmin Jeong; Seungho Lee; Jinho Ahn 出版日期：2023-11-21
求助人	脆弱的刺猬在 2026-09-22 14:11:22 发布自河南，悬赏 20 积分
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