Simulation of SiH4 and N2O PECVD process for preparing SiO2 thin film

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标题	Simulation of SiH4 and N2O PECVD process for preparing SiO2 thin film
网址	http://dx.doi.org/10.1109/piers.2017.8262155
DOI	10.1109/piers.2017.8262155 doi
其它	期刊：2017 Progress In Electromagnetics Research Symposium - Spring (PIERS) 作者：Zhuwen Zhou; Yiyan Yang; Bo Kong; Chen Lu 出版日期：2017-05-01
求助人	xkyasc 在 2026-07-26 23:25:41 发布自浙江，悬赏 10 积分
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