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Dynamics of SiO2 Buried Layer Removal from Si-SiO2-Si and Si-SiO2-SiC Bonded Substrates by Annealing in Ar |
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期刊:Journal of Electronic Materials 作者:L.-G. Li; S. Rubino; Ö. Vallin; J. Olsson 出版日期:2013-11-19 |
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(2025-6-4)