Silicon epitaxial film growth on silicon substrate exposed to UV-excited NF3/H2 gas for native oxide removal

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标题	Silicon epitaxial film growth on silicon substrate exposed to UV-excited NF3/H2 gas for native oxide removal
网址	https://doi.org/10.1016/S0022-0248(98)01077-X
DOI	10.1016/S0022-0248(98)01077-X doi
其它	期刊：Journal of Crystal Growth 作者：Sung Ku Kwon; Do Hyun Kim; Jong Tae Baek 出版日期：1999
求助人	zhai957 在 2026-06-25 17:01:06 发布自美国，悬赏 10 积分
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