A Study on the Process of Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of (AlxGa1

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标题	A Study on the Process of Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of (AlxGa1 – x)2O3 Thin Films 等离子体增强化学气相沉积(AlxGa1-x)2O3薄膜工艺研究相关领域化学薄膜化学气相沉积托尔分析化学（期刊）燃烧化学气相沉积沉积（地质）镓等离子体碳膜纳米技术有机化学材料科学古生物学物理量子力学沉积物生物热力学
网址	https://doi.org/10.1134/s0018143923050065
DOI	10.1134/s0018143923050065 doi
其它	期刊：High energy chemistry 作者：Leonid Mochalov; M. A. Kudryashov; I. O. Prokhorov; M. A. Vshivtsev; Yu. P. Kudryashova; et al 出版日期：2023-09-29
求助人	清悦在 2024-04-28 15:06:18 发布自福建，悬赏 10 积分
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