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Atomic Layer Etching of SiO2 Utilizing Ultra-Low Electron Temperature Plasma |
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期刊:ACS applied electronic materials 作者:Junyoung Park; Nayeon Kim; Jung‐Eun Choi; Y. K. Yeo; Min-Seok Kim; et al 出版日期:2025-05-05 |
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(2025-6-4)