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标题
A high throughput PMOS Source-Drain process optimized within FINFET architecture for high volume chip manufacturing
网址
http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/9180248/9185190/09185252...
DOI
10.1109/asmc49169.2020.9185252 doi
其它 期刊：2020 31st Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC)
作者：Rakesh C Mahadevapuram; Vikas K Kaushal; Arvind Raviswaran
出版日期：2020-09-04
求助人
Mr_龙在天涯 在 2026-10-08 15:06:29 发布自上海，悬赏 10 积分
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