Source optimization for less aggressive optical proximity correction in 0.55 NA logic single patterning

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标题	Source optimization for less aggressive optical proximity correction in 0.55 NA logic single patterning
网址	https://doi.org/10.1117/12.3072167
DOI	10.1117/12.3072167 doi
其它	期刊：Photomask Technology 2025 作者：Min-Woo Kim; Yu-Jin Chae; Hee-Chang Ko; Ji-Won Kang; Michael Yeung; et al 出版日期：2025
求助人	jun 在 2025-11-10 14:47:57 发布自安徽，悬赏 20 积分
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