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  Promoting effect of interfacial hole accumulation on photoelectrochemical water oxidation in BiVO4 and Mo doped BiVO4 BiVO4和Mo掺杂BiVO4中界面空穴积累对光电化学水氧化的促进作用
相关领域
兴奋剂
材料科学
化学工程
化学
光电子学
工程类
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期刊：Advanced powder materials 作者：Xiaofeng Wu; F. Palacio; Shixin Chang; Marcus Einert; Qingyang Wu; et al 出版日期：2024-09-19 |
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