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标题
First-principles insights into the synergistic chemical–mechanical removal mechanism of 4H-SiC in chemical mechanical polishing
化学机械抛光中4H-SiC协同化学机械去除机理的第一性原理
相关领域
机制（生物学） 化学机械平面化 抛光 材料科学 纳米技术 化学 化学工程 冶金 工程类 物理 量子力学
网址
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2025.163991
DOI
10.1016/j.apsusc.2025.163991 doi
其它 期刊：Applied Surface Science
作者：Changqi Xu; Xin Song; Li Ning; Yan Su; Renke Kang; et al
出版日期：2025-07-05
求助人
从容丶不解释 在 2025-09-29 10:43:04 发布自广东，悬赏 10 积分
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