First-principles insights into the synergistic chemical–mechanical removal mechanism of 4H-SiC in chemical mechanical polishing

机制(生物学) 化学机械平面化 抛光 材料科学 纳米技术 化学 化学工程 冶金 工程类 物理 量子力学
作者
Changqi Xu,Xin Song,Li Ning,Yan Su,Renke Kang,Shang Gao
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier BV]
卷期号:710: 163991-163991 被引量:23
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2025.163991
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