Effects of high‐flux low‐energy (20–100 eV) ion irradiation during deposition on the microstructure and preferred orientation of Ti0.5Al0.5N alloys grown by ultra‐high‐vacuum reactive magnetron sputtering

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标题	Effects of high‐flux low‐energy (20–100 eV) ion irradiation during deposition on the microstructure and preferred orientation of Ti0.5Al0.5N alloys grown by ultra‐high‐vacuum reactive magnetron sputtering 相关领域分析化学（期刊）材料科学微观结构溅射沉积微晶溅射晶格常数纹理（宇宙学）薄膜化学衍射复合材料冶金光学纳米技术物理图像（数学）色谱法人工智能计算机科学
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