| 标题 |
 Effects of high‐flux low‐energy (20–100 eV) ion irradiation during deposition on the microstructure and preferred orientation of Ti0.5Al0.5N alloys grown by ultra‐high‐vacuum reactive magnetron sputtering 相关领域
分析化学（期刊）
材料科学
微观结构
溅射沉积
微晶
溅射
晶格常数
纹理（宇宙学）
薄膜
化学
衍射
复合材料
冶金
光学
纳米技术
物理
图像（数学）
色谱法
人工智能
计算机科学
|
| 网址 |
求助人暂未提供
|
| DOI |
暂未提供，该求助的时间将会延长，查看原因？
|
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
cdercder
22336
Copyright
Kao
ale
行走的荷尔蒙
嘉心糖
arniu2008
yjh123
乐空思
叶子666
sswbzh
Nole
pokexuejiao
昏睡的蟠桃
MozzieMiao
殷勤的紫槐
啵啵
aajhajkahna
颂歌998
皖公网安备34019202002308
