HfO2/Ti Interface Mediated Conductive Filament Formation in RRAM: An Ab Initio Study

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标题	HfO2/Ti Interface Mediated Conductive Filament Formation in RRAM: An Ab Initio Study
网址	https://doi.org/10.1109/TED.2017.2785352
DOI	10.1109/TED.2017.2785352 doi
其它	期刊：IEEE Transactions on Electron Devices 作者：Boubacar Traore; Philippe Blaise; Benoit Sklenard; Elisa Vianello; Blanka Magyari-Kope; Yoshio Nishi 出版日期：2018
求助人	哇咔咔在 2026-01-20 15:19:32 发布自山东，悬赏 10 积分
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