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  Chemically Amplified Molecular Glass Photoresist Regulated by 2-Aminoanthracene Additive for Electron Beam Lithography and Extreme Ultraviolet Lithography 相关领域
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期刊：ACS Omega 作者：Siliang Zhang; Long Chen; Jiaxing Gao; Xuewen Cui; Cong Xue; et al 出版日期：2023-07-23 |
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