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Magnetron deposition of copper oxide coatings in a metallic mode enhanced by RF-ICP source: A role of substrate biasing
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网址
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2023.111956
DOI
10.1016/j.vacuum.2023.111956 doi
其它 期刊：Vacuum
作者：Dmitrii V. Sidelev; Ekaterina D. Voronina; G.A. Bleykher
出版日期：2023-02-27
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充电宝 在 2026-01-10 18:07:01 发布自河北，悬赏 10 积分
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