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标题
Chemical Mechanical Polishing of Gallium Nitride with Colloidal Silica
二氧化硅化学机械抛光氮化镓
相关领域
抛光 氮化镓 化学机械平面化 镓 材料科学 胶体二氧化硅 氮化物 胶体 铟镓氮化物 冶金 纳米技术 化学工程 图层（电子） 工程类 涂层
网址
https://doi.org/10.1149/2.024112jes
DOI
10.1149/2.024112jes doi
其它 期刊：Journal of The Electrochemical Society
作者：Hideo Aida; Hideo Aida; Koji Koyama; Haruji Katakura; Kazuhiko Sunakawa; et al
出版日期：2011-01-01
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无限铸海 在 2025-12-03 17:12:59 发布自江苏，悬赏 10 积分
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