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 Ultralow‐k Amorphous Boron Nitride Based on Hexagonal Ring Stacking Framework for 300 mm Silicon Technology Platform 用于300 mm硅技术平台的基于六角环堆叠框架的超低k非晶氮化硼
相关领域
材料科学
电介质
堆积
微电子
无定形固体
硼
纳米技术
光电子学
氮化硼
兴奋剂
结晶学
化学
有机化学
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| DOI | |
| 其它 |
期刊：Advanced Materials Technologies 作者：Cheng‐Ming Lin; Chuang‐Han Hsu; Wei‐Yu Huang; Vincent Astié; Po‐Hsien Cheng; et al 出版日期：2022-05-16 |
| 求助人 | |
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