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标题
Super-resolution critical dimension limits of positive tone i-line photoresists
正色调i线光刻胶的超分辨率临界尺寸极限
相关领域
光刻胶 临界尺寸 光刻 衍射 极限（数学） 抵抗 维数（图论） 分辨率（逻辑） 直线（几何图形） 光学 特征（语言学） 图像分辨率 材料科学 兰姆达 计算机科学 物理 纳米技术 数学 人工智能 几何学 图层（电子） 纯数学 哲学 数学分析 语言学
网址
https://doi.org/10.1117/12.2287470
DOI
10.1117/12.2287470 doi
其它 期刊：
作者：David B. Miller; Robert R. McLeod; Adam Jones
出版日期：2018-02-22
求助人
郜尔阳 在 2025-10-27 08:14:48 发布自安徽，悬赏 20 积分
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