Investigation of Optimum Deposition Conditions of Radio Frequency Reactive Magnetron Sputtering of Al 0.7 Sc 0.3 N Film with Thickness down to 20 nm

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标题	Investigation of Optimum Deposition Conditions of Radio Frequency Reactive Magnetron Sputtering of Al 0.7 Sc 0.3 N Film with Thickness down to 20 nm
网址	https://onlinelibrary.wiley.com/doi/pdf/10.1002/aelm.2022007...
DOI	10.1002/aelm.202200726 doi
其它	期刊：Advanced Electronic Materials 作者：Seung Kyu Ryoo; Kyung Do Kim; Hyeon Woo Park; Yong Bin Lee; Suk Hyun Lee; et al 出版日期：2022-09-03
求助人	wxy 在 2026-09-20 15:51:35 发布自北京，悬赏 10 积分
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