| 标题 |
[高分]
Effects of substrate bias on the properties of TiCrN films deposited on 316L by RF magnetron sputtering 衬底偏压对316L射频磁控溅射TiCrN薄膜性能的影响
相关领域
材料科学
基质(水族馆)
溅射沉积
光电子学
溅射
腔磁控管
薄膜
纳米技术
生物
生态学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|