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 Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition of Silicon Nitride for Two Different Aminosilane Precursors Using Very High Frequency (162 MHz) Plasma Source 相关领域
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期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：You Jin Ji; Hae In Kim; Seung Yup Choi; Ji Eun Kang; A. R. Ellingboe; et al 出版日期：2023-06-03 |
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