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标题
Towards Understanding the Physics of Gate Switching Instability in Silicon Carbide MOSFETs
对碳化硅MOSFETs栅开关不稳定性物理学的认识
相关领域
材料科学 阈值电压 碳化硅 光电子学 负偏压温度不稳定性 栅氧化层 MOSFET 晶体管 氮化镓 金属浇口 栅极电介质 电压 电子工程 电气工程 纳米技术 工程类 图层(电子) 冶金
网址
DOI
10.1109/irps48203.2023.10117740 doi
其它 期刊:
作者:Maximilian W. Feil; Katja Waschneck; H. Reisinger; Judith Berens; Thomas Aichinger; et al
出版日期:2023-03-01
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