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标题
Interfacial stress engineering toward enhancement of ferroelectricity in Al doped HfO2 thin films
增强Al掺杂HfO2薄膜铁电性的界面应力工程
相关领域
铁电性 材料科学 兴奋剂 压力（语言学） 薄膜 复合材料 化学工程 工程物理 纳米技术 光电子学 电介质 工程类 语言学 哲学
网址
https://doi.org/10.1088/1674-1056/ad4ff4
AI链接 iop.orgdoi.org
DOI
10.1088/1674-1056/ad4ff4 doi
其它 期刊：Chinese Physics B
作者：Shuai Chen; M M Chen; Liu Y; Cao W; G J Chen
出版日期：2024-05-24
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疯狂的氧化铪 在 2025-08-28 10:09:25 发布自山东，悬赏 10 积分
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