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 Comparisons of atomic layer etching of silicon in Cl2 and HBr-containing plasmas 含Cl2和HBr等离子体中硅原子层刻蚀的比较
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Mahmoud A. I. Elgarhy; Qinzhen Hao; Heejung Kim; Sang Ki Nam; Song-Yun Kang; et al 出版日期：2024-12-06 |
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