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 Comparison of O2 plasma treatment on porous low dielectric constant material at sidewall and bottom of trench structure 沟槽结构侧壁和底部多孔低介电常数材料的O2等离子体处理比较
相关领域
沟槽
材料科学
多孔性
电介质
等离子体
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复合材料
多孔介质
光电子学
图层（电子）
物理
量子力学
核物理学
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期刊：Thin Solid Films 作者：Yi-Lung Cheng; Bing-Hong Lin; Chih-Yen Lee; Giin-Shan Chen; Jau-Shiung Fang 出版日期：2018-03-19 |
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