Study on dose reductions of organometal chemically amplified resists for sustainability of EUV lithography

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标题	Study on dose reductions of organometal chemically amplified resists for sustainability of EUV lithography
网址	http://dx.doi.org/10.1117/12.3072198
DOI	10.1117/12.3072198 doi
其它	期刊：International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2025 作者：K. Machida; E. Satoshi; A. Konda; E. Nomura; T. Kozawa 出版日期：2025-11-06
求助人	樊珩在 2026-10-07 17:57:28 发布自上海，悬赏 20 积分
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