Enhancement of Laser-Induced Damage Threshold of HfO2 Thin Films via Substrate Heating During Magnetron Sputtering

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标题	Enhancement of Laser-Induced Damage Threshold of HfO2 Thin Films via Substrate Heating During Magnetron Sputtering
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2025.162853
DOI	10.1016/j.apsusc.2025.162853 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Siqing Zhang; Chunyang Wang; Donghao Li; Weigang Zhang; Xiaoxu Huang; et al 出版日期：2025-03-01
求助人	奋斗雨灵在 2026-10-08 15:56:01 发布自北京，悬赏 20 积分
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